立式管式气氛炉

立式管式气氛炉的特别设计能够实现在真空或气氛保护条件下对样品快速升降温，四面加热，温场更均匀，立式结构使得气体排放更加顺畅，炉体垂直安装在可移动支架上有利于炉管取放温度的均匀性，可以预抽真空并能通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳、氨分解气等气体，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，特别适合薄膜生长、电极测试、氧化物晶体生长、快速退火等实验需要！

适用范围：

立式管式气氛炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，应用于高、中、低温CVD工艺，如碳纳米管的研制，晶体硅基板镀膜，金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理等。

用途：针对粉末表面沉积的CVD实验，适合薄膜生长、电极测试、氧化物晶体生长、快速退火等实验。

特点：炉体垂直安装在可移动支架上，四面加热，温场更均匀，流化床设计，反应气体和均匀地通过反应区。

炉管尺寸：Φ50×1000mm

温区长度：440mm(更多规格可按照客户要求定制)

恒温区长：200mm

工作温度：1100℃（此温度为长期加热温度）

最高温度：1200℃

控温方式：智能化30段可编程控制（用户可选配液晶触摸屏显示）

控温精度：±1℃

温控保护：具有超温和断偶保护功能

加热速率：0~20℃/分

加热元件：含钼合金加热丝

工作电压：AC 220V 单相 50HZ （电路电压用户可选择定制）

最大功率：3KW